CS 電化學(xué)工作站是集電化學(xué)分析方法和電化學(xué)測試方法于一體的電化學(xué)通用儀器，軟件具備實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)自動處理和實(shí)驗(yàn)結(jié)果分析功能，可用于多種電化學(xué)相關(guān)測試與研究。
具體應(yīng)用于：1）研究電化學(xué)機(jī)理；物質(zhì)的定性定量分析；2）常規(guī)電化學(xué)測試，包括電合成、電沉積(電鍍)性能評價(jià)；3）功能和能源材料（電池、超級電容器、納米材料、生物傳感器等）的機(jī)理和制備研究；4）緩蝕劑、水質(zhì)穩(wěn)定劑、涂層以及陰極保護(hù)效率快速評價(jià)以及氫滲測試等；5）金屬材料在導(dǎo)電性介質(zhì)（包括水/土壤/混凝土等環(huán)境）中的腐蝕電化學(xué)測試。
1、硬件參數(shù)指標(biāo)
恒電位電位控制范圍：±10V
恒電流控制范圍：±2.0A
電位控制精度：0.1%×滿量程讀數(shù)±1mV
電流控制精度：0.1%×滿量程讀數(shù)
電位分辨率：10mV(>100Hz), 3mV(<10Hz)
電流靈敏度：1pA
電位上升時(shí)間：<1mS(<10mA),<10mS(<2A)
參比電極輸入阻抗：1012W||20pF
電流量程：2A～2nA, 共10檔
槽壓：±21V
大輸出電流：2.0A
CV 和LSV掃描速度：0.001mV～10000V/s
CA和CC脈沖寬度：0.0001～65000s
電流掃描增量：1mA @1A/mS
電位掃描時(shí)電位增量：0.076mV @1V/mS
SWV頻率：0.001～100KHz
DPV和NPV脈沖寬度：0.0001～1000s
AD數(shù)據(jù)采集：16bit@1MHz, 20bit @1KHz
DA分辨率：16bit, 建立時(shí)間：1mS
CV的小電位增量：0.075mV
IMP頻率：10mHz~1MHz
低通濾波器：8段可編程
電流與電位量程：自動設(shè)置
接口通訊模式：USB2.0
2、電化學(xué)阻抗功能指標(biāo)
信號發(fā)生器：
頻率響應(yīng)：10mHz~1MHz
交流信號幅值：0mV~2500mV
直流偏壓：-10~+10V
DDS輸出阻抗：50W
波形：正弦波，三角波，方波
正弦波失真：<1%
掃描方式：對數(shù)/線性，增加/下降
大負(fù)載電容：1nF；大負(fù)載電感：10mH
信號分析器：
積分時(shí)間：小值：10mS 或者一個循環(huán)的長時(shí)間
大值：106個循環(huán)或者105S
測量時(shí)間延遲：0~105秒
直流偏置補(bǔ)償：
電位自動補(bǔ)償范圍：-10V~+10V
電流補(bǔ)償范圍：-1A~+1A
帶寬調(diào)整(Bandwidth) ：自動或手動設(shè)置, 共8級可調(diào)
3、功能方法對比
CS350H、CS310H、CS312H和CS315H硬件參數(shù)指標(biāo)、電化學(xué)阻抗指標(biāo)相同，電化學(xué)功能方法設(shè)置有區(qū)別，詳細(xì)比較見下圖：
功 能 方 法 | CS350H | CS310H | CS312H | CS315H | |
穩(wěn)態(tài)極化 | 開路電位測量（OCP） | l | l | l | l |
恒電位極化（I-t） | l | l | l | l | |
恒電流極化 | l | l | l | l | |
動電位掃描（Tafel） | l | l | l | l | |
動電流掃描（DGP） | l | l | l | l | |
暫態(tài)極化 | 任意恒電位階梯波 | l | l | l | l |
任意恒電流階梯波 | l | l | l | l | |
多電位階躍（VSTEP） | l | l |
| l | |
多電流階躍（ISTEP） | l | l |
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計(jì)時(shí)分析 | 計(jì)時(shí)電位法（CP） | l | l |
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計(jì)時(shí)電流法（CA） | l | l |
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計(jì)時(shí)電量法（CC） | l | l |
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伏安分析 | 線性掃描伏安法（LSV） | l | l | l | l |
循環(huán)伏安法（CV） | l | l | l | l | |
階梯伏安法（SCV） | l |
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差分脈沖伏安法（DPV） | l |
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常規(guī)脈沖伏安法（NPV） | l |
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方波伏安法（SWV） | l |
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交流伏安法（ACV） | l |
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常規(guī)差分脈沖伏安法（DNPV） | l |
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二次諧波交流伏安（SHACV） | l |
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溶 出 伏 安 | 恒電位溶出伏安 | l |
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線性溶出伏安 | l |
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階梯溶出伏安 | l |
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方波溶出伏安 | l |
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交流溶出伏安 | l |
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交流阻抗 | 電化學(xué)阻抗（EIS）～頻率掃描 | l | l | l | l |
電化學(xué)阻抗（EIS）～時(shí)間掃描 | l | l | l | l | |
電化學(xué)阻抗（EIS）～電位掃描 | l | l | l | l | |
腐蝕測量 | 循環(huán)極化曲線（CPP） | l | l | l |
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線性極化曲線（LPR） | l | l | l |
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電化學(xué)噪聲（EN） | l | l | l |
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電偶腐蝕測量（ZRA） | l | l | l |
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氫擴(kuò)散測試（HDT） | l | l | l |
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電池 | 電池充放電測試 | l | l |
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恒電流充放電 | l | l |
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擴(kuò)展測量 | 盤環(huán)電極測試 | l | l |
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數(shù)字記錄儀 | l | l | l | l | |
波形發(fā)生器 | l | l |
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圓盤電機(jī)控制 | l | l |
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